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入門フォトマスク技術 価格: 3,990円 レビュー評価: 0.0 レビュー数:0 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマス 著者:田辺功/竹花洋一出版社:工業調査会サイズ:単行本ページ数:323p発行年月:2006年12月この著者の新着メールを登録する【目次】(「BOOK」データベースより)第1章 フォトマスク技術の基本/第2章 半導体フォトマスク/第3章 電子部品用マスク/第4章 先端フォトマスク技術/第5章 NGLマスク技術/第6章 マスク産業の現状/第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し【著者情報】(「BOOK」データベースより)田邉功(タナベイサオ)1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。1961?81年(株)日 Supported by 楽天ウェブサービス |